• 第三十三届国际半导体物理大会(ICPS 2016)

    2016-07-29 14:39:53

    第三十三届国际半导体物理大会(ICPS2016)于2016年7月31日至8月5日在北京召开。德仪科技作为主赞助商之一参加了会议。国际半导体物理大会是半导体物理领域内最高水平的学术会议,具有重大国际影响力,每届都有多名诺贝尔物理学奖获得者参加并作报告。会议的主要目的是为各个领域的物理学家提供学术讨论和交流的平台,会议内容包括半导体物理研究的所有分支,如...

  • 真空镀膜机镀前预处理和镀后处理方法

    2019-07-05 16:18:24

     镀前预处理的目的是为了得到干净新鲜的金属表面,为最后获得高质量镀层作准备,要进行脱脂、去锈蚀、去灰尘等工作

  • 磁控溅射种类

    2019-07-05 16:35:01

      磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材

  • 真空镀膜机原理和各部件分析

    2019-07-05 16:40:19

      真空镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的真空设备,一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成,排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。本公司专业从事真空镀膜设备的研发与生产拥有经验丰富的技术团队及优质的售后服务队伍为您解决设备在使用过程中遇到的任何问题

  • 磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

    2019-07-09 17:34:19

        磁控溅射 镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一, 磁控溅射 镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜,在国防和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性,沉积速率,靶材利用率等方面的问题是实际生产中十分关注的。解决这些实...